Ni 納米線(xiàn)、NiO/Ni 自支撐膜及其制備方法和應(yīng)用
本發(fā)明公開(kāi)了一種 Ni 納米線(xiàn)、NiO/Ni 自支撐膜及其制備方法和應(yīng)用。所述 Ni 納米線(xiàn)為平均長(zhǎng)度 50,000 至 200,000nm 的超長(zhǎng)納米線(xiàn);其制備方法為:首先配置 Ni 納米線(xiàn)液相生長(zhǎng)液;然后在外加磁場(chǎng)下制備 Ni 納米線(xiàn)單質(zhì);最后分離純化 Ni 納米線(xiàn)。所述 NiO/Ni 自支撐膜包括所述 Ni 納米線(xiàn)及其煅燒制得的表面為 NiO 的 Ni 納米線(xiàn);其制備方法為:首先將所述 Ni 納米線(xiàn)分散在表面活性劑溶液中;然后抽濾將 Ni 納米線(xiàn)轉(zhuǎn)移到微孔濾膜上,制得 Ni 自支撐膜;最后將
華中科技大學(xué)
2021-04-14